Strategische samenwerking Rijksuniversiteit Groningen en ASML

Jouke de Vries (RUG) en Richard Kemkers (ASML). (Afbeelding RUG)

Achtergrond van de samenwerking
De samenwerking tussen ASML en de RUG, met name de Faculty Science & Engineering (FSE), bouwt voort op een jarenlange voorgeschiedenis, mede geïnitieerd door Ronnie Hoekstra, die vanuit de RUG al vanaf 2014 actief is binnen het Advanced Research Center for Nanolithography (ARCNL). In juni 2023 organiseerden beide partijen een ‘ASML Day’ in Groningen om studenten bekend te maken met de semiconductorindustrie, de industrie die halfgeleiders gebruikt om daarvan computerchips te maken. Tegelijkertijd vonden diepgaande verkenningen plaats van mogelijkheden voor intensieve samenwerking van onderzoekers en experts van ASML en FSE op het gebied van onderzoek en ontwikkeling.

De samenwerking die al jarenlang loopt met ASML via het NWO-instituut ARCNL, waarbij onder meer de Zernike-LEIF ionenbundelfaciliteit van de RUG wordt ingezet, heeft belangrijke kennis opgeleverd in het kader van de zogenaamde EUV (extreme ultraviolet) lithografietechnologie van ASML voor de vervaardiging van de meest complexe computerchips. Onlangs is deze samenwerking verder geïntensiveerd met een nieuw traject rond de volgende generatie belichtingstechnologie voor chips, waarbij met licht van een kortere golflengte nog fijnere patronen op chips kunnen worden aangebracht.

Daarnaast wordt ook op andere terreinen nauw samengewerkt en zijn er nieuwe gezamenlijke onderzoeksprojecten gestart op het gebied van nieuwe materialen, vloeistof- en stromingsprocessen, speciale coatings en geavanceerde regeltechniek. Deze onderzoeken leveren cruciale inzichten op die een rol spelen bij de ontwikkeling van toekomstige ASML-machines en die daarmee van belang zijn voor toekomstige generaties microchips.