14 augustus 2018
European Inventor Award voor geavanceerde microchipproductie
Met hun methode om geometrische patronen op siliciumwafers te etsen voor de volgende generatie computerchips, brengen de Nederlandse Erik Loopstra en de Nederlands-Russische Vadim Banine een nieuw digitaal tijdperk dichterbij.
Het uitvindersduo werd voor hun innovatie beloond met de European Inventor Award Publieksprijs 2018. De onderscheiding werd uitgereikt tijdens een feestelijke ceremonie in Parijs. Loopstra en Banine en hun onderzoeks- en engineeringsteams bij de Nederlandse fabrikant van halfgeleiderapparaten ASML en de Duitse fabrikant van optica Zeiss, ontwikkelden het extreem-ultraviolette lithografie (EUVL) productiesysteem voor kleinere, snellere en krachtiger halfgeleiders. Steeds kleinere, krachtiger chips zijn van cruciaal belang voor verdere technologische ontwikkelingen in het digitale tijdperk. Volgens de voorspelling van de Amerikaanse ingenieur Gordon Moore verdubbelt sinds de jaren zestig de rekenkracht van computers ruwweg elke twee jaar. Nu echter lopen conventionele chipproductiemethoden tegen fysieke en economische grenzen aan. Daarmee komt de wet van Moore in de verdrukking. De ontwikkeling van het EUVL-productiesysteem, dat de golflengte van de straling vermindert die wordt gebruikt om chipdetails te etsen, geeft echter een nieuwe impuls aan deze wet. Het EUVL-systeem is gebaseerd op een krachtige laser die op minuscule druppels tin schiet. Dat creëert een ultraheet plasma dat extreem ultraviolette straling genereert. Een optisch systeem met spiegels geleidt dit licht vervolgens naar de silicumlaag van de chip.
