Druppelgenerator voor EUV

Deze ‘proof of concept’-opstelling gebruikt waterdruppels die met extreem hoge frequenties worden vrijgelaten om het gedrag van gesmolten tin in extreem ultraviolet (EUV) lichtsystemen te simuleren. In echte toepassingen worden gesmolten tindruppels vrijgelaten en gericht in de lucht door een CO₂-laser, waarbij ze een plasma vormen dat EUV-straling uitzendt, een kernprincipe achter geavanceerde lithografiesystemen zoals ontwikkeld door ASML.